通过特殊的提纯工艺和百级净化环境下罐装而成,金属离子的含量可达到10ppb以下。如客户有特殊要求可根据客户要求进行生产加工。
　　·　高纯试剂：低颗粒高纯试剂、MOS试剂、CMOS试剂二大系列二十多个品种。
　　·　光刻胶配套试剂：负胶显影液、负胶漂洗液、负胶显影漂洗液、正胶显影液等、各类混合酸、氟腐蚀液。
　　·　通用试剂：过氧化氢、盐酸、硫酸、硝酸、异丙醇、氨水、氢氟酸、丙酮、乙醇等二十多个品种。

EL级：优于美国SEME
C1标准，控制1μm颗粒，控制十多个金属元素，单项金属元素控制在100PPb。
MOS级：介于EL与CMOS之间，控制0.5μm颗粒，控制三十多个金属元素，单项金属元素控制在10—100PPb。
CMOS级：等同于美国SEME C7标准，控制0.5、0.3μm颗粒，控制三十多个金属元素，单项金属元素控制在10PPb以下。