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河北省南皮乌马营工业园
 

 

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产品名称:紫外正、负性光刻胶2
 
 
 
产品介绍:

通过特殊的提纯工艺和百级净化环境下罐装而成,金属离子的含量可达到10ppb以下。如客户有特殊要求可根据客户要求进行生产加工。
  · 高纯试剂:低颗粒高纯试剂、MOS试剂、CMOS试剂二大系列二十多个品种。
  · 光刻胶配套试剂:负胶显影液、负胶漂洗液、负胶显影漂洗液、正胶显影液等、各类混合酸、氟腐蚀液。
  · 通用试剂:过氧化氢、盐酸、硫酸、硝酸、异丙醇、氨水、氢氟酸、丙酮、乙醇等二十多个品种。

EL级:优于美国SEME
C1标准,控制1μm颗粒,控制十多个金属元素,单项金属元素控制在100PPb。
MOS级:介于EL与CMOS之间,控制0.5μm颗粒,控制三十多个金属元素,单项金属元素控制在10—100PPb。
CMOS级:等同于美国SEME C7标准,控制0.5、0.3μm颗粒,控制三十多个金属元素,单项金属元素控制在10PPb以下。

 



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